以 ±0.002mm（φ200mm）这一平面度要求来说，微小的误差可能导致产品出现严重问题。
在半导体芯片制造过程中，硅片的平面度若不能精准控制，芯片在后续的光刻、蚀刻等工艺环节就容易出现线路偏差，进而影响芯片的性能和稳定性，严重时甚至导致芯片报废。
在光学镜片制造领域，镜片的平面度精度影响着光线的折射和聚焦效果，若平面度超出误差范围，会造成图像畸变、模糊等问题，使镜片无法满足高端光学设备的使用要求。
所以，将平面研磨机表面平面度控制在 ±0.002mm（φ200mm）范围内是众多精密制造行业的刚性需求，对于保障产品质量、提升生产效率和企业竞争力有着关键意义。
