在平面抛光机对工件进行抛光作业时，会用到抛光垫这样一个辅助材料。抛光垫是多种多样的，有布料型，聚氨酯型等，是抛光过程中必不可少的一种材料。抛光垫和抛光盘一样，在平面抛光机上长久作业时会有一定损耗，为了避免这种损耗，我们应该在抛光时注意各项问题，保护抛光垫在平面抛光机上的长久耐用。

为了更好的分析出如何保护抛光垫，我们详细了解下这种材料在平面抛光机上具体的使用方式。抛光垫分两面，一面是无纺布材料，这一面主要是和工件接触面，用来和工件产生摩擦达到效果的面；另一面是胶，通常用的是3M背胶，是用来将抛光垫固定在磨盘上的。固定好后，磨盘和抛光垫转动，工件自转，产生摩擦力来达到工件表面光亮的效果。

根据以上的各种分析，得出平面抛光机上改如何保护抛光垫的以下几个方法：

首先，具体工件具体配置。这是什么意思呢？也就是说什么样的工件选择什么样的抛光垫，两者要相匹配，不能乱来。

其次，一张抛光垫不能同时运用到不同工件的抛光中。我们都知道，抛光垫在抛光过程中会和工件充分摩擦，工件中的颗粒或者分子结构可能残留在抛光垫上，如果再拿到另一材质工件上去抛光，那就有可能遗留的分子结构和新的材料分子结构发生反应形成新的分子结构，会对抛光垫产生腐蚀，甚至影响抛光效果。

再者，在抛光垫完成一次抛光后，我们需要对其进行清洗，保存。为什么要清洗呢？那是因为抛光时抛光液等物质会侵蚀到抛光垫内，为避免这些残留物质在抛光垫上，损耗它的材质，影响下次抛光效果，故需要清洗。

最后，避免抛光垫与易腐蚀的抛光液混合用。保存时要将抛光垫单独存放，不能和其他液体之类的东西存放在一起。