对硅片进行机械化学抛光处理，超微磨粉与碱性溶液混合而成的抛光剂以及人造皮革进行抛光，可以达到工件表面变质层很轻微的高品位镜面加工。 抛光压力的增加，其磨粒的机械作用的加强，抛光器与工件之间接触面积的增加，所参与的有效的磨粒量也会增加，会加大抛光加工的速度，由于机械加工的加工速度高比不同抛光液进行速度要高很多，所得到的表面粗糙度更高，机械化学抛光是一种有效的工艺加工方法。 能够加工出超大规模的集成电路的硅片，所得到的硅微粒游离磨粒来进行硅片表面的研磨加工，整体误差以及局部厚度误差都接近于0。 文章作者：深圳市方达研磨技术有限公司 来源：平面研磨机、平面抛光机、研磨抛光机 |
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