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方达研磨减薄机在工艺中出现问题如何解决

文章出处:方达研磨责任编辑:方达小编人气:73发表时间:2019-11-06 04:44:47【

 

减薄机研磨垫图形大体的功能先是研磨垫之孔隙度可以协助研磨液于研磨过程输送到不同的一些区域。还有另外的功能是协助将芯片表面的研磨产物移去。研磨垫的机械性质影响到薄膜表面的平坦度以及均匀度,所以控制结构及机械性质是非常重要的。

我们通过减薄研磨的方式对晶片衬底进行减薄,从而改善芯片散热效果,但是由于减薄后的衬底背后还存在表面损害层,残余应力会导致减薄后的外延片弯曲且容易在后续工序中碎裂,从而影响成品率。因此在减薄后应对衬底背光进行抛光。减薄到一定的厚度有利于后期封装工艺。然后通过机械加工和化学反应的方法对样品进行一系列减薄研磨抛光的工艺,样品表面到达所需要的厚度,平整度,粗糙度。

那个在工艺上出现的一些问题需要怎么去解决呢,上蜡后平整度大于正负5um,我们要调整蜡层厚度及上蜡的压力。减薄后厚度均匀性需要对砂轮进行修平,校正砂轮环中心固定螺母及球轴承主轴。当减薄后片子出现裂痕我们需要对砂轮进行修锐并检查减薄步进速率,当研磨抛光后厚度均匀性较差时,我们要用平面度测量规测量盘面,用小块的砝码重力修正,如果研磨或者抛光的过程中有明显的细微划痕,我们就要清洗陶瓷盘/环;检查磨料/抛光液。

那么使用测厚仪放针的时候,我们应该避免针尖抬起后直接放落,损坏针尖,压损样品

说下我们要注意什么事项吧,第一次进行上蜡压片前检查上压盘是否处于水平位置,在减薄机使用前我们应该检查真空压力值,砂轮环使用一段时间后应该及时做修锐工作,在我们使用研磨机之前我们要提前半小时磨料配比及搅拌工作,在对小尺寸样品进行研磨和抛光工艺时应贴上陪片进行工艺操作。

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