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方达不断更新平面抛光机的抛光工艺及设备

文章出处:方达研磨责任编辑:方达小编人气:2202发表时间:2014-07-14 03:33:11【

随着平面抛光机进入市场,被广大消费者所喜爱。即便是这样,方达还在继续不断更新平面抛光机的抛光工艺以及设备的更新。

在平面抛光的抛光工艺,实际上其技术的更新是没有止境的,方达在原有的基础上,在不断地进行进一步的开发。对于过去已经能够加工出来的,在追求更短的加工时间,更简单的加工工序。对于有些工件,由于容易发生工件损坏的,也在追求更高的成品率。同时,更低的耗材成本更是方达持续努力的方向。

对于平面抛光机的加工,在抛光盘运转的过程中,里面的抛光液随着盘的转动液体容易飘逸出来,甚至跑到地面上,污染了环境。现在的圆台代替方台,抛光液不容易溢出,新设计的凸台拦下了飞溅出来液体。

深圳方达的在平面抛光机的持续创新的原则其实也应用在其他的研磨抛光设备,正因为如此,方达才能不断推出新产品新技术,并且持续更上时代潮流对研磨技术所提出的要求。作为镜面抛光机设备,其技术已经达到国际一流水平,但在几年前的镜面抛光机设备,就远远不如现在的技术和加工精密度了,这种持续的进展源自于方达对研磨技术的追求。

 平面抛光机外观

此文关键字:平面抛光机,镜面抛光机